半導体洗浄、ライン洗浄、材料の表面処理、医療・化学・薬品・食品分野での化学反応、理化学実験 など
| 型式 | KHOW-20A |
|---|---|
| 外形寸法(mm) | W440×D524×H820(突起部含まず) |
| 材質 | 筐体-ステンレス |
| 質量 | 約50kg |
| 電源 | AC100V 50/60Hz |
| 消費電力(最大) | 218W |
| 定格電流(最大) | 2.4A |
| 原料ガス(酸素) | 濃度:90%以上 |
| 供給圧:0.1Mpa | |
| 流量:2~8L/min ※1 | |
| 供給水 | 水道水:(水道法適用) |
| 流量:2~8L/min(手動調整) | |
| 水圧:0.1~0.5Mpa | |
| 耐圧:1.5Mpa | |
| 使用環境条件 | 気温:5℃~35℃、湿度10~80%RH(結露・凍結なきこと) |
| 最大オゾン発生量(酸素流量) | 16.8g/h(8L/min) ※2 |
| オゾン濃度(酸素流量) | 52g/N㎥(24/min) ※2 |
| オゾン水濃度 | 1~10ppm ※2 ※3 |
| 接続口径 | 内径φ12ホース用ネジ式コネクタ(Rc1/2) |
| 交換部品 | オゾン分解剤 |
| 安全機能 | 漏電遮断器、オゾンリークセンサ、オゾン分解剤 |
※1 供給水の流量により変化します。
※2 オゾン発生量、濃度、オゾン水濃度は使用環境条件 気温25℃、湿度50%RHでの参考値です。
※3 オゾン水濃度は気温、湿度、水温等により変化します。
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